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專利侵權行為的構成要件，構成專利侵權行為的要件包括兩個方面：形式條件和實質條件。我們具體來看看專利侵權行為的構成要件。

專利侵權行為的構成要件

專利侵權行為的構成要件是什么?

形式要件主要有：

(1)實施行為所涉及的是一項有效的中國專利;

(2)實施行為必須是未經(jīng)專利權人許可或者授權的;

(3)實施行為必須是以生產(chǎn)經(jīng)營為目的。對于行為人是否具有主觀故意并不是形式要件。但是，可以作為衡量其情節(jié)輕重的依據(jù)。

構成專利侵權的實質要件，主要有以下幾種表現(xiàn)形式：

(1)行為人所涉及的技術特征與專利的技術特征全部相同，則構成侵權;

(2)行為人所涉及的技術特征多于專利的技術特征，也構成侵權;

(3)行為人所涉及的技術特征與專利的技術特征有相同的，有相異的，但是，相異的技術特征與專利的技術特征是等效的，仍構成侵權;否則，不構成侵權。這里技術特征等效，是指所屬技術領域的普通技術人員能夠推斷出某兩種技術特征彼此替換后，所產(chǎn)生的效果相同。