構成專利侵權行為的條件有哪些?
構成專利侵權行為的條件有哪些?
構成專利侵權行為的要件包括兩個方面:形式條件和實質條件。其中,形式要件主要有,實施行為所涉及的是一項有效的中國專利、必須是未經(jīng)專利權人許可或者授權的、實施行為必須是以生產(chǎn)經(jīng)營為目的。對于行為人是否具有主觀故意并不是形式要件。但是,可以作為衡量其情節(jié)輕重的依據(jù)。
構成專利侵權的實質要件,也就是技術條件,實質實施行為是否屬于專利的保護范圍。如果行為人所涉及的技術特征屬于專利權的保護范圍,那么該行為人就構成了專利侵權。主要有以下幾種表現(xiàn)形式:
涉及的技術特征與專利的技術特征全部相同,則構成侵權;涉及的技術特征多于專利的技術特征,也構成侵權;涉及的技術特征與專利的技術特征有相同的,有相異的,但是,相異的技術特征與專利的技術特征是等效的,仍構成侵權;否則,不構成侵權。
國家正不斷的出臺想先關政策完善專利侵權糾紛的的調節(jié),主要還需要出臺相關的知識產(chǎn)權違法的懲處措施,為專利違法做出相關法律明文規(guī)定;知識產(chǎn)權即為知識經(jīng)濟,知識帶給我們的價值所在,所以保護專利人的合法權利是相當重要的。
看的辛苦不如直接問!! 商標;專利;版權;法律